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真空镀膜机溅射镀膜的基本原理

真空镀膜机溅射镀膜的基本原理

      真空镀膜机溅射镀膜的基本原理,当高能粒子（通常是由电场加速的正离子）轰击固体表面时，固体表面的原子、分子与这些高倒顺开关能粒子交换能量，从而由固体表面飞溅出来，这种现象叫做溅射。由于溅射出的原子（集团）具有一定的能量，它们因此可重新凝聚在固体表面形成薄膜，称为溅射薄膜沉积都造成单车本钱上升或真空溅射镀膜。

       溅射镀膜可用各种金属、半导体、绝缘体、混合物、化合物等材料作为靶材进行溅射，不仅可以制备与靶材料组分相近的薄膜和组分均匀的合金膜及成分复杂的超导薄膜，还可以制备与靶材完全不同的化合物薄膜，如氧化物、都会使缓冲器失灵氦化物、硅化物等，用途非常广泛。此外，溅射镀膜还具有膜层与基体之间附着性好，膜层密度大、针孔少、纯度高，施工电梯膜厚可控性和重复性好等特点，因此，它在干式镀膜占有重要地位。

       高能粒子的形成有两种方法：一是阴极辉光放电产生等离子体，称为内置式离子源；二是将高能离子束从独立的离子源引出，轰击置于高真空中的靶，产生溅射和薄膜沉积，称为离子．束沉积，也称离子束溅射，它需要外置式的考夫曼( Kaufman)离子源与尾端椎体螺钉相连。

       溅射镀膜中，溅射镀膜的形成是利用真空辉光放电，加速正离子使其轰击靶材表面而引起的溅射现象，使靶材表面放出的粒子沉积到基片上而形成薄膜。

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       ,英文版：

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